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第277节（第2页）

少顷。

再次来到广蓝路软件园，紫港电子的招牌业已换成了山海微电，重新焕发新生。

来往的工作人员脸上，写满自豪之情。

所有人都知道，今天上午，公司即将进行28纳米芯片的生产启动会，若是能圆满成功，就可以成为华国第一家实现中高端芯片大规模量产的半导体企业。

这意味着大量的订单，急剧膨胀的市值，和丰厚的奖金！

与公司的每一个人息息相关，在陈河宇掌权后，对山海微电的组织架构梳理重塑，留下来的人基本领到了一份分红股权。

每到年底，会根据净利润额进行奖金分配，大大提高了员工的研发生产积极性。

“陈总，芯片的掩膜模板制作完成，我们可以先去光刻机车间参观。”

何婷波迎了上来。

“老板。”

王茂松招呼道。

“按你说得来，预估良品率能控制在多少？”

陈河宇走在前方，侧身问道。

“结合实验室的数据，粗略判断在80％以上。”

技术方面的核心参数，何婷波最为熟悉，不假思索道。

“低了一些，要是那100台NXT1950iDUV光刻机到货以后，还有下降的空间吗？”

陈河宇追问道。

20％的报损率着实有些高，但没办法，山海微电的光刻机大多都是老旧的设施，能正常刻录芯片就算不错了，不敢奢望太多。

对比国产光刻机70％的良品率，这个数值勉强还能接受。

“估计可以做到90％！”

何婷波回道。

英特、波通这些芯片巨头，基本也是使用的NXT1950iDUV光刻机，良品率稳定在90％。

“嗯，我知道了。”

陈河宇点点头回道，在EUV光刻机还未诞生的年代，90％的良品率实属不易。

要等到2018年，EUV光刻机得到广泛应用，才能应对日益精密的半导体制造需求，极大提升良品率问题。

这是因为EUV光刻机采用的是极紫外光源，而DUV光刻机使用的是深紫外光源。

EUV光源的波长约为13.5纳米，比DUV光源的波长要短得多，可以实现更加精细的分辨率和更小的工艺尺寸，较短的波长能够产生更细腻的图像。

但并不是没有缺点，制造和维护成本都较高，光源的稳定性、镜片制造依旧是个难题，没有三五年，想要应用到半导体工业中，简直痴心妄想。

一行人来到制造部门，换上无尘服、静电消除鞋、帽子和头套，以及防护面罩，以应对车间中可能存在的一些化学品喷洒、粉尘飞扬等风险。

众人站在一旁，随着陈河宇示意。

一名操作员出列，立马取出一块8英寸晶圆，经过仔细观察，确保表面没有任何杂质和污染物，又拿出带有电路图案的透明底片，也就是光掩膜的模板，小心翼翼放置在光刻机上。

“继续吧。”

陈河宇对这些操作并不陌生，系统在录入Fan－Out封装技术后，脑子里便多出几十年芯片封测经验，可以看出操作员的动作非常娴熟。

处理到这里，操作员又使用旋涂机将光刻胶涂在晶圆上，因为光刻胶是感光性的，可以通过紫外光曝光后改变化学性质，形成复杂的电路图案。

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