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第502章 光刻工厂的设想弯道超车（第3页）

“王院士，你说的光刻设备设计方案是真的吗？”

沈总管一见面，就直接问了起来。

王东来在说出来的时候，就已经想好了，这个时候自然不会反悔。

当即就点头承认下来，出声说道：“领导，是真的！”

“原本我也是想着我们国家的半导体技术落后国际水平，所以在研的时候，也是从一些不够重要的领域开始，为的就是能够多一些时间让我们的半导体技术展。”

“现在，只是初步完成了eda设计软件，光刻胶以及先进封装等方面的突破，虽然不算是最好的结果，但也不算差了。”

“这个时候，已经被白头鹰列入了制裁名单，这就证明白头鹰已经注意到银河科技了。”

“那么，我也不用再遮掩了，早点设计出属于我们国家的光刻设备，我们才能早一点在半导体领域站起来。”

沈总管表现的很冷静，此时出声问道：“我听说你的设计方案，只需要两年就能投产，并且还可以提前？”

王东来点头，承认道：“是的！”

“根据我的了解，目前全球最为尖端的光刻机是来自荷兰的asmL，我们国家的光刻机设备还远远不能和asm1相比较，你的两年时间完成投产，是基于什么信心而做出的判断？”

沈总管虽然不是专业人士，可是在来的路上，还是看了一部份的资料，所以此刻便问了出来。

王东来并不在意这一点，而是详细地和沈总管解释了起来：“asm1在光刻机领域的霸主地位，并没有多少年。”

“这其中，也不全是asm1的功劳，它的7o%的技术都是白头鹰产品和白头鹰技术。”

“比如说是镜头来自蔡司，asm1拥有蔡司的2o%多的股份，cymer的极紫外光源排名世界前列，被asm1收购，光掩模板、机电设备、激光器、微激光系统、离子注入机套件、准分子激光源、电子束检测设备等等，要么是被asm1收购，要么就是asm1入股。”

“正是因为有这些尖端技术的加持，所以才能让asm1的展如此迅，全球第一个拿出了沉浸式euV光刻机，领先市场。”

“我们国家的光刻机想要过达到世界一流水平，就必须要从这些配件一个个地开始突破，只有这样，才能达到这个水平。”

“这是我们跟在asm1后面展，想要追赶上来的唯一办法。”

“如果这么做的话，根据我的估计，最低也需要十五年才能追赶上来。”

“但如果是我们换一种思维呢！”

“asm1把光刻机做的这么小，所以它才需要这么多高端的设备和仪器。”

“它之所以做小，是为了可以出口售卖，卖给芯片厂商，为了方便运输，为了方便搬运。”

“但如果我们抛弃运输，售卖的想法呢。”

“直接把小小的一个光刻机变成一座光刻工厂，这样一来，就能避开光刻机的很多技术要求了。”

“起码，这么做的话，我们就未必需要最尖端的技术来组装。”

“同时，一台光刻机每天二十四小时工作下来，生产出来的合格芯片，也只有几万枚而已。”

“但是，如果由光刻工厂来生产的话，生产效率能在光刻机的基础上翻上最低十倍之多。”

沈总管并没有因为王东来说出来的这么多优势而兴奋，依旧保持着冷静。

“你说的都是优点，我想半导体领域应该也有人能想到这一点，但是却没有人这么做，也没有这样的尝试，这里面肯定还是存在着一些问题。”

“从目前的情况来看，应该是坏处多于好处，所以你说的光刻工厂可行性暂且不说，你如何能证明它建造完成之后，可以过光刻机。”

听到沈总管指出这个问题，王东来脸上浮现出一丝笑意。

“领导，您说的确实是一个很重要的问题。”

“关于这一点，我也可以做一个简单的解释。”

“光刻机也存在优点和缺点，它的缺点是光源相干性极差，使用反射镜滤光单镜光源损耗率3o％，总损耗98％，asmL使用的反射镜全世界只有蔡司能够生产。”

“第二，光刻机的锡污染以及光路散热工程造成易损件成本增加，高na升级到6oo瓦光源功率，使得整机成本增加到四倍。”

“第三，光刻机的生产效率低下，以34ooB来说，该euV光刻机的生产效率是每小时125片晶圆，还不到duV光刻机生产效率的一半，毫无疑问，该光刻机的生产效率不高，将直接导致芯片的生产成本居高不下。”

“最后，便是光刻机的耗电量大，TJd的所有euV光刻机开工用电量将会占用半个三峡电站的电量。”

“至于光刻机的好处我就不提了，我再说说光刻工厂的优缺点。”

“缺点有一点很重要的，那就是波荡器、扭摆器、尾场激光器三大件，不能产生瞬间磁场的弯铁必须淘汰，还没有这样的装置进行验证。”

“如果说光刻机是机床的话，光刻工厂就是一个车间，把光刻机尽量放大，用一台周长1oo到15o米的环形加器来作为光源，然后带动数台甚至是数十台光刻机进行工作。”

“我们在追赶荷兰的光刻机时，如果只想着因循守旧，走人家的老路，很难在短时间内完成越。”

“我们必须要另辟蹊径，开出新的技术路线。”

“光刻工厂，就是我想到的最好办法！”

听完王东来的话，沈总管陷入了沉默之中，久久没有言语。

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