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第九五五章 交换专利（第1页）

“大家以前不认识我，但应该认识鲲鹏软件集团公司吧？大家对上个月发明光刻机磁悬浮式双工作台系统的BSEC也不陌生吧？”

孙健召开第一次GCA高层会议，给公司指明方向，重生者不可能长时间待在美国，为了一家控股不到六成的美国高科技公司日夜操劳也不值得。

“我还是鲲鹏软件集团公司的老板和BSEC的控股股东。”

欧美人敬佩有钱人，崇拜白手起家的创业者。

艾德里安、布罗迪、布莱克、亚度尼斯、艾伦、汤普森、埃里克、安格斯、米勒、戴维斯、罗德里格斯和布鲁斯南一脸的惊讶，这才恍然大悟。

鲲鹏软件名扬天下，发展前景不是日落西山的GCA能比的！

虽然BSEC刚刚成立，但率先研发成功光刻机三大核心技术之一的磁悬浮式光刻机双工作台系统，能明显提升光刻机制程工艺精度和工作效率，属于光刻机的核心技术专利之一，一鸣惊人！

亏损严重的GCA因面临被出售，人心惶惶，公司没有派人前往京城商量购买光刻机磁悬浮式双工作台系统的专利，也不知道幕后老板就是眼前气势不凡的年轻华人。

“ATIC只是TIC的一家子公司，TIC是四年前在百慕大群岛注册的金融投资公司，三年前，MIP基金将其持有的30ASML公司的股权以1800万美元的价格卖给了TIC，去年飞利浦公司打算将其持有的30ASML公司股权，以2300万美元的价格卖给TIC，但我对控股ASML没有兴趣！我如今已经控股BSEC，要是超过6000万美元，我也不会收购通用信号公司持有的47GCA股权。”

实话实说！

除了捡漏，不会溢价控股GCA。

GCA日落西山，47的股权两度被老板出售，不想三度被出售的话，好好的干！一群美国名校出身的博士在孙董事长的眼里也没什么了不起的，干活不出力的话，也是被辞退的对象。

美国的经济衰退还没结束，失业率高达7。

“现如今，尼康光刻机设备公司控制了光刻机高端市场，占据了五成的市场份额，一枝独秀！中低端市场份额被佳能占据了二成，GCA、SVG、Ultratech、日立公司和ASML只能瓜分剩下的三成份额，半导体产业还没有恢复到衰退前的水平，光刻机的市场容量有限，市场竞争激烈，实事求是的说，我并不看好GCA的未来！”

新董事长对世界光刻机行业的现状了如指掌，现场高管惊讶之余，也知道公司的现状，忧心忡忡，都想听听新董事长如何指引方向？

“汤普森院长，GCA如今在光刻机领域排名前三位的技术有哪几项？”

“孙董事长，ArF准分子激光器技术世界第一，KrF光刻胶技术排在IBM之后。”

麻省理工学院物理学专业博士、五十二岁的美国科学院院士汤普森院长自豪之色溢于言表，GCA曾经是全球光刻机的霸主。

还兼任光刻机光源研究所所长，研究方向就是光刻机光源、ArF准分子激光器。

“GCA将来定位高端光刻机市场，在光源系统方面继续保持行业第一优势的同时，加大投资提升ArF准分子激光器的性能；要与蔡司公司在光学系统紧密合作，签订长期供货合同；公司想在制程工艺精度方面赶上Nikon，我认为突破点就在BSEC不久前发明的光刻机磁悬浮式双工作台系统上！”

孙健停下来喝口水，不会将浸没式光刻机的研发方向告诉汤普森院长，虽然手背手心都是肉，但血浓于水！

艾德里安和布罗迪眼前一亮。

“艾德里安总经理，公司能否用ArF准分子激光器专利交换BSEC的光刻机磁悬浮式双工作台系统专利？”

光源、光学系统和工作台系统是光刻机的三大核心技术，BSEC拥有了其一，还是全球独一无二的核心技术！自己先后控股了BSEC和GCA，完成了巴克豪斯投资入股的要求，投资蔡司半导体制造公司的股权只是时间问题，光学系统也有了着落，换取GCA的ArF准分子激光器的终身专利授权成为首要之选。

“孙董事长，虽然公司的ArF准分子激光器还保持行业第一，但Nikon和Canon等光刻机公司都拥有自己的ArF准分子激光器公司发明专利，我担心BSEC不会答应。”

如今世界前十位的光刻机公司都有自己研发的ArF准分子激光器，GCA的ArF准分子激光器不是唯一之选，艾德里安当然担心。

“艾德里安总经理，因为涉及两家控股公司关联交易和利益输送方面的法律问题，我不便出面，我授权艾德里安总经理代表GCA，同汤普森院长一起，带着律师，一起前往BSEC，与对方的余建国总经理和邓国辉院长商谈ArF准分子激光器同光刻机磁悬浮式双工作台系统专利技术授权转让事宜，我也授权余建国总经理代表BSEC，你们双方商量后决定，艾德里安总经理和余建国总经理最后在专利技术授权转让协定上签字盖章。”

GCA属于美国上市公司，美国的法律条文齐全，违法必究，涉及到两家控股公司的关联交易和利益输送，一旦出问题，孙董事长跑不了，避免留下污点，不会出面协调，不给下属留下偏袒一方的把柄，避免秋后算账，他只会告诉余建国，他将入股蔡司公司，解决光学系统的难题，相信余建国和邓国辉知道公司急需什么技术？处在优势位置，在谈判桌上，不会吃亏。

有了世界第一的ArF准分子激光器专利技术的终身授权，BSEC光源厂就能合法生产ArF准分子激光器（不能出售和转让专利技术），邓国辉团队在研究透了ArF准分子激光器的基础上，开始研发ArFi准分子激光器，提前研制193nm浸没式光刻机，一旦研制成功，BSEC必将脱胎换骨。

浸没式光刻系统是前世台积电林工程师的建议，被投入巨资研究F2准分子激光器的尼康和佳能等光刻机光源专家嗤之以鼻，但ASML冒险采纳了这个建议，攻克了光刻机193nm波长的世界性光学难题，生产了全球第一台浸没式光刻机，一举成名！

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