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第一一一八章 浸没式光刻系统遇到难题（第1页）

800nm制程工艺的专利技术对于GCA来说如同鸡肋，但对于BSEC如同神助，掌握后就能跨越1um制程工艺，拥有800nm制程工艺技术。

拥有了193nm的ArFi准分子激光器的制造技术和800nm制程工艺的专利技术，但BSEC还不能生产自主知识产权的1um制程工艺的光刻机。

为了将来不被美国政府卡脖子，未雨绸缪，BSEC要掌握生产光刻机的三大核心技术：光源系统、光学系统和工作台系统，不断升级换代。

叮嘱邓国辉，BSEC光刻机光源研究所研究清楚GCA生产的193nmArF准分子激光器的工作原理和制造技术，光刻机光源公司自己生产；叮嘱陈伟长，BSEC光刻机光学研究所自己研制成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光学镜头和反射镜头，光刻机光学公司自己生产。

孙健承诺，BSEC在2年内生产具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机，淘宝控股公司掏钱奖励项目组200万元；在4年内能生产一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线，他从淘宝控股公司持有的BSEC股份中，拿出200万股奖励给做出重大贡献的科技和生产人员，但在规定时间内，完不成任务，就开始裁员！

奖励和裁员双管齐下，管理层、技术人员和普通员工的压力剧增。

邓国辉拿到ArF准分子激光器专利技术，同钱富强仔细研究一番后，如醍醐灌顶，豁然开朗，申请2000万元的研发经费，带领光刻机光源研究所按照GCA提供的技术图纸，消化吸收ArF准分子激光器的专利技术……

1995年2月，经过一年半的攻关，光刻机光源公司生产出一台6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机。

1995年9月，BSEC生产了一条有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线，填补了国内技术空白，打开了国内市场，终于抛掉三年巨亏的不利局面，1995年度实现净利润11600万元。

1996年4月20日，BSEC拿到公开发行新股的额度，6月11日，在鹏城证券交易所公开发行了15000万股新股（其中1000万股职工股），每股发行价6元，融资873亿元（扣除发行费用），其中8亿元用于研发8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机，073亿元用于补充公司流动资金。

当时BSEC研制的6英寸晶圆和800nm制程工艺的光刻机已经临近尾声。

“邓院长，研究院继续研发8英寸晶圆和500nm工艺的光刻机。”

“好的，董事长！”

“魏总，公司争取早日生产出一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线，到时，PGCA率先订购一条。”

“好的，董事长！”

“董事长，经过近2年的联合攻关，研究证实，我们用去离子水等手段，保持水的洁净度和温度，使其不起气泡，用去离子水作为曝光介质，虽然光源波长还是用原来的193nm，但通过去离子水的折射，能使进入光阻的波长明显缩小，使用浸没式技术突破193nm波长可行，我们如今遇到的最大难题是我们自己制造的光学镜头不能满足突破193nm波长光刻光学器件的技术要求。”

浸没式光刻技术联合攻关组组长陈伟长院士给孙健汇报浸没式光刻技术的最新进展，总经理魏建国、院长邓国辉院士、副院长欧阳民院士、联合攻关组副组长夏季常院士和光源研究所所长钱富强研究员也在场。

1994年，钟德伟教授和夏季常教授凭借研究成功全球独一无二的光刻机悬浮式双工作台系统技术项目成果，晋升工程院院士。

1995年，陈伟长研究员凭借研究成功1um制程工艺的光学系统技术项目成果，欧阳民研究院凭借研制成功6英寸晶圆技术项目成果，同一批晋升工程院院士。

同年，钱富强副研究员在自主制造ArF准分子激光器的工作中做出重大贡献，晋升研究员，担任光刻机光源研究所所长。

邓国辉院士不再兼任光刻机光源研究所所长，集中精力主持光刻机半导体研究院的整体研究工作。

浸没式光刻技术在BSEC属于严格保密的研究项目，属于在研项目的第一号，由光刻机光学研究所、光刻机光源研究所和光刻机自动化研究所相关研究人员和高级技师组成，联合攻关组由陈伟长院士和夏季常院士领衔，所有参与者同BSEC签订了保密协定。

“陈副院长，据我所知，虽然蔡氏公司专门为GCA和ASML研发成功的Starlith900，是世界上第一个批量生产的193nm波长光刻光学器件，也是第一个可以实现100nm以下分辨率的系统，但浸没式光学镜头与众不同，蔡司公司、尼康公司和佳能公司如今都还没有开始研制，只能我们自己研制和生产，我们也不需要太过着急，一步步来，从零部件到总装等方面夯实基础，联合攻关组需要购买的机器设备和材料，可以直接向魏总申报，陈副院长看上的高端专业人才，交给人事部组织招聘和引进。”

控股GCA，作为ASML、蔡司耶拿公司、CarlZeissAG的第二大股东，有资格第一时间知道这些公司的最新科技成果，但今年初刚刚面世的Starlith900也在瓦森纳协定出口管制产品和技术目录上，不能出口国内。

EUV光刻机也不是十年左右就能研制成功的，孙健如今也不慌了，打牢基础，即使BSEC三年内研制成功全球第一台浸没式光刻机，他也打算雪藏，等193nm波长遇到突破65nm制程工艺的世界性难题时，再将这项突破性专利技术推出，一鸣惊人！

不要挑战美国是世界高新技术的领导者和引领者的地位！

华为和中兴前世的教训太深刻了！

虽然ATIC参股MEMC，能买到8英寸晶圆，但孙健叮嘱兼任硅片制造研究所所长的欧阳民院士，自己研究和生产8英寸晶圆，硅片新能源产业前途无量。

BSEC光刻机半导体研究院下属的光刻机光源研究所、光刻机光学研究所、硅片制造研究所、光刻机自动化研究所、刻蚀机研究所、光刻机热处理研究所、掩膜版研究所、离子注入机研究所和光刻机半导体信息部，除了夏季常院士领导的光刻机自动化研究所处于全球光刻机自动化行业首位外，其他都排不进全球前十名，任重道远，需要持续投入巨资，在全球范围内招聘顶尖人才，但在国内都处于光刻机半导体行业第一，任何一家公司的副产品推向市场，都能做到国内前三位。

“好的，董事长！”

陈伟长舒了一口气，肩上的压力小多了。

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