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第912节（第3页）

“走吧。”

陆飞换好装备，穿过走廊，墙壁上挂着华夏第一枚原子弹跟氢弹的当天报纸和照片。

头顶，悬挂着一条条横幅，都是激励士气的口号语，其中最显眼的莫过于——

“搞出光刻机，挺直腰杆子！”

“陆总，这就是我们自主研发的65nmArF干式光刻机，由逻辑、沪市微电子、长春光机、华为等多家单位、上千家供应商联合攻克，下一步就是预生产，在生产中不断改进完善，然后逐步实现量产化。”

孙红军兴奋至极，“预计一到两年，就能全部替代掉ASML和尼康的65nm光刻机。”

“还是自己的机器香啊！”

陆飞透过玻璃，看着工作人员有条不紊地操作，余光里注意到尹志尧等人的情绪很不对劲，“这么难得的好日子，你们怎么看上去不是很高兴啊，难道是光刻机还有什么质量上的问题，或者技术上的缺陷？”

“陆总，设备没有问题，技术也没有问题，就是……就是有一个坏消息……”

尹志尧一脸为难。

“什么坏消息？”

陆飞鼓励道：“没关系，说出来，不说出来，我们又怎么想办法解决呢？”

“陆总，ASML研发出了全球第一台EUV光刻机，已经送到三星的研究机构预生产。”

尹志尧无奈地叹了口气。

“你看你，又急。”

陆飞挑了挑眉，倍感意外，这么凑巧！

EUV光刻机的出现，相当于光刻机技术和设备正式发展到第五代，遥遥领先于他们。

第一代光刻机是以436nm的g－line汞灯光源为主，只适用于5μm以上制程。

之后出现了365nm的i－line汞灯光源的第二代光刻机，制程精度来到了350到500nm。

这两代都只能算是接近式光刻机，到了第三代扫描投影式光刻机，才实现了跨越式的突破，把最小工艺推进至150到250nm。

他们生产的65nmArF干式光刻机，算是第四代，也就是步进式投影式光刻机，制程工艺最高可以推进到65nm，想要更上一层——

就得用到浸入技术，也就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中，在此基础上，就有了四代半的浸入步进式投影式光刻机。

本来，逻辑跟ASML这些国际一线的光刻机厂商，就只剩ArFi这么个半代差距。

但EUV光刻机一出现，又把这个差距拉到了至少1.5代，而且这个技术差距，不像制程工艺那么好追，是整个产业链的全面落后。

“不是我急，陆总，一旦EUV预生产成功的话，英特尔、三星、台积电也许不出三五年，就能得到EUV光刻机的生产线……”

尹志尧话里无不透着焦虑。

“尹教授，这台EUV，ASML、三星、英特尔、蔡司、台积电它们花了多久才研制出来？”陆飞透过面罩的玻璃，直直看去。

“从林本坚提出浸润式微影技术的理论，到现在，大概十三、十四年。”

梁孟松站出来回答。

“对嘛，这不就结了。”

陆飞拍了拍尹志尧的肩膀，“EUV集欧美日韩这么多全球最顶尖的半导体公司和人才，也要花13年的时间，何况是我们呢！”

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