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第571章 汉东芯片我们自己的芯片（第1页）

“关键是酚醛树脂的分子量和交联度控制，还有感光剂的光酸产率。”

一次深夜的技术讨论会上，祁同伟听完汇报，眉头紧锁，在白板上写下一连串化学反应式和分子结构式，

“我们现在用的这种国产树脂，热稳定性有余，但溶解率和感光后的交联度匹配不好。

我建议，尝试在树脂链上引入少量含氟基团，改变其极性，同时调整感光剂中鎓盐的阴离子部分，用全氟辛基磺酸盐试试，可能会改善溶解对比度和线条边缘粗糙度。”

会议室里一片寂静。几位材料化学博士看着白板上那些专业的结构式和反应机理，面面相觑。祁工不仅懂工艺，连底层材料化学都如此精通？

“祁工，您说的这个思路……理论上是可行的，但含氟单体的引入可能会带来毒性增加和成本上升……”一位博士迟疑道。

“成本不是问题。毒性在可控环境下处理。”祁同伟斩钉截铁，“先做小试。王院士，您看呢？”

王明远院士扶了扶老花镜，仔细看着白板，眼中闪过一丝光芒：“同伟同志的思路很敏锐！含氟基团确实能有效改善溶解选择性。我看可以试试！就按这个方向，调整实验方案！”

在祁同伟的“点拨”下，材料组调整了研方向。一周后，初步实验结果显示，新配方光刻胶的分辨率和线条边缘有了明显改善。虽然距离理想状态还有差距，但终于看到了突破的曙光。

光刻胶的问题刚看到希望，蚀刻工艺又出了岔子。

从日本进口的一台二手反应离子刻蚀机（rie），在工艺调试时，始终无法达到理想的刻蚀选择比和均匀性。负责工艺整合的工程师团队折腾了半个月，调整了无数参数——气体流量、射频功率、腔室压力、电极温度——刻蚀出的线条总是深浅不一，侧壁陡直度也不够。

一次工艺整合会议上，气氛有些沉闷。负责蚀刻的工程师老张汇报完最新一批糟糕的实验数据，垂头丧气。

祁同伟盯着投影仪上显示的、如同狗啃过一般的硅片se（扫描电镜）照片，沉默了片刻，突然问道：“这台rie机的电极是下电极射频驱动，上电极接地，对吧？”

“是的，祁工。”老张点头。

“射频匹配网络的调谐范围，你们检查过吗？还有，腔体内部，特别是上电极和下电极之间的屏蔽环（shiedrg）间隙，有没有测量过？我怀疑，是设备老化和长途运输，导致腔体内部某些机械尺寸生了微米级的变化，影响了等离子体的均匀分布。”祁同伟缓缓说道。

老张一愣。他们一直把问题归结于工艺参数，还真没仔细检查过设备内部的机械结构，尤其是屏蔽环这种细节。

“立刻停机，开腔检查。”祁同伟下令。

设备工程师打开腔体，经过精密测量，果然现上电极与屏蔽环之间的间隙，比标准值大了约微米！正是这毫不起眼的、因长期使用和运输震动导致的微小形变，严重破坏了腔体内的电场均匀性，导致了刻蚀不均匀。

问题找到，解决起来就简单了。重新调整屏蔽环位置，校准间隙。再次开机实验，刻蚀均匀性立刻得到大幅改善！

这件事在项目组内部传开后，祁同伟“技术天才”和“魔鬼细节控”的形象更加深入人心。他不仅能从宏观上把握方向，更能深入到最具体、最细微的技术环节，一针见血地指出问题所在。这种能力，在大型复杂工程中，价值连城。

在祁同伟的带领下，项目组采用“饱和式研”策略。对每一个关键技术节点，都组织多个小组，尝试不同的技术路线。不怕失败，不怕浪费，用海量的实验和试错，硬生生趟出一条路来。

资金如同开闸的洪水，源源不断地注入。昂贵的进口材料、精密仪器、高薪聘请的专家、日夜不停的实验……所有能用钱解决的困难，在这里都不再是困难。

所有人的神经都紧绷着，与时间赛跑。

进入十一月底，京州的初冬已经有了寒意。但芯片项目基地内，却是一片热火朝天。

月日，凌晨两点。

基地内新建成的、达到千级洁净标准的条实验产线车间里，灯火通明，却鸦雀无声。所有人都屏住呼吸，目光聚焦在生产线末端的那台自动测试机上。

经过长达四十八小时不间断的运行，第一批采用汉东自研光刻胶、自调工艺参数，在整合调试完毕的生产线上流片的测试芯片，终于完成了最后的封装，被送入测试机。

祁同伟、王明远、赵蒙生（岭南军区司令员）、梁群峰、赵立春、李达康、靳开来，以及所有核心技术人员，都静静地站在测试间外，透过玻璃窗，看着里面闪烁的指示灯。

测试工程师的手指有些颤抖，按下了启动键。

机器出轻微的嗡鸣，探针卡精准地落在芯片的焊盘上。

时间仿佛凝固了。

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几秒钟后，测试机屏幕上的数据开始疯狂跳动，绿色和红色的指示灯交替闪烁。

然后，屏幕中央，跳出了一个清晰的提示框：

“deviceid:hd-test:pass”

“paratretspec”

“overayied:”

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