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第1444节（第2页）

“跟刚才那张表上的情况一样，业界宣传的‘5nm’、‘3nm’这些节点名称，仍然是制程迭代的代称，跟实际的最小物理特征尺寸并非严格的一一对应关系。”

他解释道：

“所谓‘5nm’节点实际对应的特征尺寸，业界预估会在25nm左右，至于‘3nm’，则可能对应到15-18nm区间。”

张汝宁隔着面罩整理了一下护目镜，继续深入技术本质：

“对于25nm的特征尺寸，arf-18oo仍然可以通过双重曝光技术实现，就是良品率会比单次曝光生产3onm级别的产品时有所下降，工艺整合的复杂度也会提升，不过技术路径是确定存在的。”

尽管隔着面罩，但众人还是能感觉到，栾文杰原本皱着的眉头舒展开来。

而张汝宁语气却变得慎重起来：

“至于2onm以下级别的特征尺寸，将是另一个维度的挑战……实际上，随着芯片制程逼近硅材料的物理极限，量子隧穿效应将变得无法忽视，晶体管将难以有效关断，漏电流剧增，同时微观层面的不确定性会急剧放大，导致器件性能的波动性大幅增加。”

“一般认为这个临界尺寸会在1onm左右，但考虑到衍射极限的存在，以及任何工业产品都不可能做到真正意义上的完美无缺，就算是使用euv光刻机，要想稳定量产特征尺寸在2onm以下的产品，也会非常非常困难，而且良率会不可控制的降低。”

随后，他做了一个总结性的判断：

“我个人认为，随着边界效应的递增，未来芯片性能提升的主要驱动力，将从过去单纯依赖制程微缩，转向更依赖于芯片架构创新、先进封装技术、还有底层驱动软件和算法的深度优化……”

张汝宁坦诚地摊了摊手：

“只不过，这后面几项，就不是我们搞光学的人能专精的了。”

这番论述，让栾文杰登时陷入沉默，面罩下的呼吸明显变得粗重了几分，白色的雾气在护目镜内侧迅凝结又消散。

半导体科技即将撞上当前理论天花板！

这对于单纯追求技术进步的科学家而言或许令人沮丧，但对于此时此刻正面临外部高压、急需时间窗口来巩固自身产业链的华夏来说，却是个绝佳的良机。

“好！好！好！”

栾文杰连说了三个好字，声音透过面罩带着压抑的激动，却很好地控制住了情绪外露：

“常院士张研究员，还有各位奋战在一线的同志们，你们的成果和这番分析，给了我，也给了决策层最急需的底气和最清晰的方向！”

他用力地点了点头，目光再次扫过平台上那小巧却蕴含巨大能量的物镜模组，以及那片刻着“f”字的晶圆，仿佛要将这景象深深印入脑海……

……

大约一小时后，参观结束。

一行人换掉密闭难受的防护服，重新回到外部空间。

“我回去之后，会以最快度，将今天的所见所闻，特别是arf-18oo物镜系统的实测性能数据、量产能力评估以及关于技术极限的战略分析，形成一份详实报告。”

解除了身上的束缚之后，栾文杰的语气变得轻快起来：

“这份报告将作为最核心的决策依据，直接呈送最高层，它将为我们在即将到来的、更高层面的科技博弈中，提供最坚实的支撑和最有力的反击武器！”

说完，他不再耽搁对常浩南示意了一下，便转身带着随行人员准备离开。

然而，常浩南的声音却又一次从身后传来：

“栾主任，请留步。”

栾文杰脚步一顿，疑惑地回头。

常浩南已走到他身边，脸上带着一种古怪的笑意，目光投向无尘室侧壁另一扇不起眼的门：

“时间还早，既然来都来了，那么隔壁还有一点‘小东西’，或许也值得花几分钟看一眼……不会耽误太多时间。”

栾文杰现在满脑子都是那份即将出炉的报告，但对方的神情和语气勾起了他强烈的好奇心。

除了之前那瓶维生素b以外，这位总顾问口中的“小东西”，都相当不简单。

“好！”他果断点头“既然你都说值得看，那必然值得。走！”

两人在警卫陪同下，很快通过连接通道，进入了隔壁的另一个实验室。

这里的氛围与刚才的净光学室截然不同。

没有厚重的无尘服要求，只需在门口戴上防护眼镜即可。

室内光线明亮，但显得有些空旷冷清，远不如刚才那边人头攒动。

只有栗亚波一人，正全神贯注地俯身在一座相对小巧的光学平台前，小心翼翼地调整着几个精密调整架上的旋钮。

他显然注意到了来者，只是手边的工作一时间放不下。

直到这时，栾文杰才想起来，刚才确实一直都没看见这位常浩南的得意门生。

平台的主体是一个稳固的光学面包板，上面架设着激光器、光束扩束准直器、几个装有特殊透镜的调整架、一个黑色的圆柱形遮光罩，以及远处一个带有精密位移台的成像屏。

整个装置透着一股……豪华的朴素感。

第1623章突破阿贝极限！

“常院士，这是……？”栾文杰环顾四周，有些不解。

相比旁边关乎国家半导体命脉的光刻机测试，这里的设备显得过于“普通”了。

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